वैद्युत रासायनिक मशीनन में उपकरण और वर्कपीस के बीच कितना अंतर रखा जाता है?

व्याख्या:

ECM (वैद्युत रासायनिक मशीनन):

• ECM प्रक्रिया में तंत्र EDM संकल्पना के समान होता है। ECM में, EDM की स्थिति में पारद्युतिक के बजाय एक प्रवाहकीय द्रव (वैद्युत -अपघट्य) के माध्यम से उपकरण (कैथोड) और वस्तु (एनोड) के बीच एक उच्च धारा प्रवाहित की जाती है।
• ECM प्रक्रिया एक विद्युत-अपघट्य और उच्च विद्युत-धारा का उपयोग एक बर-मुक्त सतह से उत्पन्न होने वाले धातु परमाणुओं को आयनित करने और हटाने के लिए करता है।

​

ECM के लिए नियंत्रणीय प्रक्रिया पैरामीटर और उनकी सीमाएँ निम्नवत हैं।

• धारा                                                       50 से 40000 Amp
• धारा घनत्व                                              8 से 233 Amp/cm2
• वोल्टेज                                                  4 से 30 V DC
• अंतर इलेक्ट्रोड अंतराल                             0.5 से 0.75 mm
• विद्युत-अपघट्य वेग                                15 से 60 m/s
• विद्युत-अपघट्य दाब                               0.069 से 2.7 MPa
• विद्युत-अपघट्य तापमान                          24 से 65°C
• संभरण दर                                            0.5 से 19 mm/min